Các sản phẩm

Trang chủ Máy phun sơn siêu âm Thông tin chi tiết

Thiết bị phủ siêu âm tần số cao 100khz

Mã số sản phẩm: FS310
Tần số: 20-200khz cho Tùy chọn
Công suất: 10-100w
Lượng phun liên tục (tối đa): 0.01-50ml/phút
Chiều rộng phun hiệu quả: 2-100mm
Độ đồng đều phun: Lớn hơn hoặc bằng 95%
Độ nhớt của dung dịch: Nhỏ hơn hoặc bằng 30cps
Các hạt nguyên tử hóa (giá trị trung bình): 10-45μm (Nước cất),
xác định bởi tần số vòi phun

Gửi yêu cầu

Sự miêu tả:

Thiết bị phun phủ siêu âm FS310 chủ yếu được sử dụng trong các ngành công nghiệp như pin nhiên liệu, pin quang điện màng mỏng, lớp phủ năng lượng mặt trời màng mỏng, pin mặt trời perovskite, pin mặt trời, lớp phủ graphene, pin quang điện silicon, lớp phủ thủy tinh và mạch điện tử. Vòi phun có thể được sử dụng cho nhiều dung dịch khác nhau và thậm chí có thể phun sương nước thải, chất lỏng hóa học và chất lỏng nhớt dầu.

Công nghệ phun phủ siêu âm là kết hợp vòi phun siêu âm với không khí (khí) áp suất thấp để tạo ra các giọt phun nhỏ mềm, có độ tập trung cao. Không khí (khí) được dẫn hướng thường được đưa vào buồng khuếch tán của nắp khí bao quanh vòi phun bên dưới 0.10Mpa và tạo ra luồng không khí và khí phân bố đồng đều xung quanh thanh vòi phun. Tia phun do sóng siêu âm tạo ra ở đầu đầu phun được cuốn ngay vào luồng khí áp suất thấp.

Cơ chế điều chỉnh tiêu điểm trên chụp khí cho phép kiểm soát hoàn toàn độ rộng của tia phun. Đường bao của tia phun rất hẹp, có hình dạng đồng hồ cát. Độ rộng của hình dạng được kiểm soát bằng cách điều chỉnh khoảng cách giữa vòi phun và tấm đáy.