Các hệ thống phun siêu âm đã được chứng minh là phù hợp cho các ứng dụng khác nhau đòi hỏi các lớp phủ màng quang hoặc polyimide đồng nhất và lặp lại. Bằng cách kiểm soát độ dày từ Subicron đến hơn 100 micron và có thể phủ bất kỳ hình dạng hoặc kích thước nào, hệ thống phủ là một sự thay thế khả thi cho các kỹ thuật phủ khác như quay và phun truyền thống.
Các ứng dụng phổ biến của lớp phủ polyimide và photoresist bao gồm nhưng không giới hạn ở MEMS, ống kính, thiết bị vi lỏng, vi điện tử và bộ lọc. Hệ thống phủ có khả năng phủ lớp nền phẳng và 3D, thường bao gồm chip silicon, thủy tinh, gốm sứ và kim loại.
Siêu âm phun là một quá trình đơn giản, kinh tế và có thể tái tạo cho lớp phủ quang và polyimide. Hệ thống phủ siêu âm có thể kiểm soát chính xác tốc độ dòng chảy, tốc độ phủ và lượng lắng đọng bằng cách sử dụng các kỹ thuật phân lớp đơn giản. Xịt phun tốc độ thấp định nghĩa phun nguyên tử là một mô hình chính xác và có thể kiểm soát để tránh quá mức và tạo ra các lớp rất mỏng và thống nhất.
Ưu điểm của lớp phủ polyimide siêu âm và photoresist:
1. Phạm vi phim đồng đều của các đường viền bề mặt khác nhau.
2. Tính linh hoạt cao trong tính chất hóa học và lớp phủ.
3. Không tắc nghẽn bình xịt nguyên tử.
4. Hiệu quả truyền cao với chất thải tối thiểu.
5. Quá trình phun trưởng thành có thể tái sản xuất cao.
Hệ thống phun siêu âm sử dụng rung động âm thanh tần số cao để tạo ra một sương mù mềm bao gồm các giọt được xác định toán học. Sự tắc nghẽn được loại bỏ vì không có áp suất nào được sử dụng để tạo ra thuốc xịt và các giọt có kích thước phân phối giọt rất hẹp, điều này góp phần thêm vào tính đồng nhất của lớp lắng đọng.
